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企業動向記事
<フェトン>(記事見本) 
続報。ワイエイシイ傘下で再出発
2014年7月22日
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本   社 神奈川県厚木市岡田3050 厚木アクストメインタワー
T E L 046−220−2931 資 本 金 4億3,760万円
代 表 者 吉田 和彦氏 従 業 員 16人
業   種 レーザプロセス装置開発、製造、販売
業   積 13年6月期売上高 4億6,848万円
 レーザプロセス装置の開発、製造、販売を行う。ワイエイシイが支援して再出発することが決まった。既報のように、フェトンは経営が悪化して、今年1月14日付で東京地裁に民事再生を申請、同日監督命令も受けている。ICハンドラなど半導体製造装置を手がける東証1部上場のワイエイシイは、民事再生申請時点からスポンサーとして名乗りを挙げており、これまで2社間で細部を詰めていた。

 ワイエイシイは、ICハンドラやエッチング装置などが主力で、レーザプロセス装置でも実績はあるが手薄だったため、買収により品揃えの強化につなげる狙い。なおワイエイシイは、本日7月22日付で別途報道しているが、半導体用切断機のメーカー、ダステック(埼玉県戸田市)も買収でこのほど合意しており、M&Aが相次ぐ形となっている。

 フェトンが再出発するにあたっては、フェトンの株主が全株式をいったん無償償却、その後7月23日付でワイエイシイが増資を引き受け、同社を全額出資子会社化するという手続きをとる。ワイエイシイの全額子会社化に伴い、フェトンは社名を「ワイエイシイフェトン」に改称、決算期も6月から3月に変更する。

 再出発するワイエイシイフェトンは、フェトンにいる10数人の社員をそのまま継続雇用、民事再生申請後の債権債務も継承するが、申請前の債務は再生法の手続きに沿ってカットされることになる。また経営陣は、フェトンが民事再生法を申請した時点では社長は楡孝氏だったが、楡氏はその後病死、現在は同社専務だった吉田和彦氏が社長に昇格しており、ワイエイシイ傘下後も吉田氏は社長を続投する。ワイエイシイからは新たに非常勤役員を送り込む見通し。

 フェトンは、2002年5月の設立で、プロセス技術とレーザ技術を融合させたレーザプロセス装置の開発、製造を行っている。具体的には、レーザを利用してウエハの片側を熱処理するレーザアニーラ、FPD・太陽電池パネル・樹脂フィルム等のパターニングを行うレーザエッチャ、インクジェットプリンタヘッドのノズルや実装基板のビアホールなどの超高速微細穿孔を行うマイクロマルチレーザドリラ、極細同軸線の端末加工からコネクタ接続まで行うレーザジャケットカッタなどを開発、外注委託で製造している。

 09年12月期には売上高6億4,000万円という規模があったが、もともと研究開発型のベンチャーのため開発投資負担などが重く、資金繰りは窮迫していた。銀行借り入れやベンチャーキャピタルからの資本受け入れなどでこれまで資金確保を図っていたが、ユーザーの投資意欲減退などから受注が減少、13年6月期の売上高は4億6,848万円となり、利益面でも連期の大幅欠損となり、債務超過状態となっていた。負債は4億円。なお民事再生の監督委員には市野澤要治弁護士(麹町誠壱法律事務所、TEL03−3239−7283)が選任されている。


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